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口頭

異種材料突合せレーザ溶接による加工影響評価

冨永 亜希; 菖蒲 敬久; 亀井 直光; 村松 壽晴

no journal, , 

機械構造物は接合部が存在し、使用環境に合わせて使う素材も多種多様である。それらを接合する技術には信頼性が要求される。レーザー加工は材質を選ばないことから、異種材料接合技術には欠かせない溶接技術として利用されることが期待される。しかしながら、接合部近傍の異種組織並びに機械的性質、異種金属間の熱膨張係数の差による応力の影響は各々考慮する必要がある。この匠の技術の計算科学シミュレーションによる汎用化を目指すため、高出力ファイバーレーザーによる炭素鋼同士の同種材溶接材及び炭素鋼と無酸素銅の異種材料溶接材内部の残留ひずみ空間分布を測定し、加工影響に関する特性を評価した。

口頭

粘土鉱物の相変態誘起を介したCs除去に関するアルカリ塩化物の反応促進効果

下山 巖; 馬場 祐治*

no journal, , 

セシウムフリー鉱化法は粘土鉱物を異なる鉱物に変換する過程で放射性Csを除去するため従来よりも低温での土壌除染を可能にするが、その効率は添加剤に依存する。CaCl$$_{2}$$は700$$^{circ}$$C付近で粘土鉱物の相変態を誘起し高い除染率を示すが、Clによる相変態誘起効果の詳細は不明である。本研究ではCs収着風化黒雲母(Cs-WB)を模擬土壌とし、相変態温度よりも低温でのCs-WBとClとの相互作用をNEXAFS分光法により調べた。NaCl-CaCl$$_{2}$$との熱処理後に塩を水洗浄で除去しスペクトルを測定した。400$$^{circ}$$C付近で異なる化学結合状態をとる複数種のClサイトの形成が観測され、塩素を含むシリカモデルクラスターの電子状態をDV-X$$alpha$$分子軌道計算により求め、それに基づいて光吸収断面積スペクトルを調べたところ、観測された成分は+1価、-1価、及び高価数のClにより解釈できることを明らかにした。Cl-O結合をとるClサイトはシリカネットワークを不安定にする効果を持つため、これにより低温での粘土鉱物の分解が促進されたと考えられる。さらに他の試薬との比較からClによる効果が添加剤の対カチオンの価数に依存することを示す。

口頭

Multi-atom resonanceの再検証

馬場 祐治*; 下山 巖

no journal, , 

Multi-atom resonanceが起こるかどうかを実験的に再検証した。X線照射によるMulti-atom resonanceとは、A-B二種類の元素からなる物質の片方の原子Aの内殻電子を共鳴励起した時に、原子Bからの蛍光X線放出(または光電子放出, オージェ電子放出)の強度が変調を受ける現象である。固体のCaCl$$_{2}$$について、Ca K-吸収端近傍で放射光エネルギーを掃引すると、共鳴吸収領域でCl K$$alpha$$X線の強度が約40%減少した。一方、CaCl$$_{2}$$の水溶液では、強度の減少は認められなかった。以上の結果から、CaとClが隣接する固体の場合は、Multi-atom resonanceが起こることが分かった。この現象を使えば、二成分系以上の物質において、対象元素の周りにある元素を特定できるので、EXAFSなどのX線吸収分光法を補完する新しい構造解析法となり得る。

口頭

光電子分光法を用いた深さ分析によるC$$_{60}$$炭素固体内部へのCs吸蔵拡散

関口 哲弘; 横山 啓一; 矢野 雅大; 朝岡 秀人; 鈴木 伸一*; 矢板 毅

no journal, , 

セシウムCs-135のレーザー同位体分離における回収過程において、CsI分子は吸蔵されず、レーザー照射により生成する原子状Csのみが選択的に吸蔵される必要がある。本研究においては吸蔵材料としてフラーレンC$$_{60}$$を選び、X線光電子分光(XPS)法を用いて固体中Csの濃度深さ分布を評価した。CsまたはCsIをC$$_{60}$$表面に吹き付けた試料について電子放出角度の依存性とX線励起エネルギー依存性を測定した。CsとCsIにおいて励起エネルギー依存性に違いが観測された。Csでは深く固体内に深く浸透する分布により説明された。一方、CsIは固体内に浸透しないことが結論された。

口頭

(Na$$_{0.5}$$K$$_{0.45}$$Li$$_{0.05}$$)NbO$$_3$$ - Ca(Zr$$_{0.5}$$Ti$$_{0.5}$$)O$$_3$$の高エネルギーX線回折

米田 安宏; 宅和 千隼*; 小舟 正文*

no journal, , 

高エネルギーX線回折実験から得られる2体相関分布関数をニオブ系酸化物強誘電体に適用した。優れた圧電特性を持つ(Na$$_{0.5}$$K$$_{0.45}$$Li$$_{0.05}$$)NbO$$_3$$ - Ca(Zr$$_{0.5}$$Ti$$_{0.5}$$)O$$_3$$は、わずかな添加物によって平均構造が変化する。平均構造の変化に伴う局所構造の変化の有無を調べるためにサンプルの密度やグレインサイズを一致させて測定したところ、3${AA}$から10${AA}$近辺の局所構造にほとんど差異はなかった。違いはナノスケールオーダー領域でコヒーレンスの違いが大きく、強誘電的ドメインサイズの違いが示唆された。

口頭

表面X線散乱法を用いたイオン液体/電極界面のその場構造解析

田村 和久

no journal, , 

固液界面は様々な化学反応の反応場であり、その反応性は界面の構造に大きく依存することがわかっている。電気化学反応は固液界面を反応場とする化学反応の1つであり、これまでに様々な手法により、反応性と電極/電解液界面の構造との関係が議論され、電極表面構造と電気二重層の構造が反応性に強く影響していることが明らかにされてきた。したがって、電気化学反応を詳細に理解する上で、電極/電解液界面の構造をナノスケールで詳細に明らかにすることが必要である。本講演では、代表的なイオン液体である1-Ethyl-3-methylimidazolium bis(trifluoromethylsulfonyl)imideおよび1-Butyl-1-methylpyrrolidinium bis(trifluoromethylsulfonyl)amide中でのAu(111)単結晶電極表面の電極電位依存性を調べた結果から明らかになった、イオン液体/Au(111)界面の特徴について紹介する。

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